無(wú)塵潔凈烘箱/干燥箱是參照GB/T11158-1989，GB2423.2-1989干燥箱技術(shù)條件及國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究制造，廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。

無(wú)塵烘箱干燥箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)，無(wú)塵工業(yè)烤箱也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。

無(wú)塵烘箱/干燥箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤，強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結(jié)構(gòu)，溫度場(chǎng)分布均勻，智能P.I.D溫控系統(tǒng)，得到溫度控制精度。

PLC全自動(dòng)真空干燥箱廣泛應(yīng)用于各種化工、生物、制藥、醫(yī)療、農(nóng)業(yè)科研、環(huán)境測(cè)試等研究領(lǐng)域；對(duì)粉末干燥、干燥熱敏性、易分解、易氧化物質(zhì)等需要在真空條件下做干燥、烘培、消毒、測(cè)試等用處。

HMDS真空鍍膜機(jī)/真空烘箱，在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。